常見問題
FAQ



單排結構
雙排結構

優勢
  • ITO電極結構簡單，可以手動刻蝕
  • 旋涂工藝只需擦除一側的活性層
  • 可以使用簡單的3M夾進行測試
  • 整體尺寸比較小，常見15x15mm
  • 上下電極十字交叉，可以精準控制重疊面積，無需光掩模
  • 頂電極底部可做ITO孤島增加電極可靠度，即使長期用探針在同一位置也能保持良好的電接觸
  • 雙排結構可以增加單片樣品中電池的總數量
  • 較容易實現蓋片封裝
劣勢
  • 上下電極重疊面積會存在批次誤差
  • 頂電極探針接觸下方沒有ITO，多次使用容易造成接觸不良
  • ITO電極結構比較復雜，需要定制
  • 旋涂工藝需要擦除多側的活性層，避空探針電極位置，制備步驟略復雜
  • 無法使用3M夾測試，需使用探針夾具
單排結構
不同樣品的有效面積會有一定的差異，用光掩模可以通過約束照射面，減少樣品的差異因素。
光掩模的好處是可以保證每個樣品的受光區域相同，但是受光面區域并不一定精確的等于光掩模開口面積，這是因為光源的光線不是絕對平行的，掩模和活性層之間有1~2mm玻璃厚度的距離。

雙排結構：3x3 mm
(方案一：兩側電極)

雙排結構：3x3 mm
(方案二：四周電極)